无尘室的湿度控制
无尘室是污染控制的基础，控制空气悬浮微粒浓度，从而达到适当的微粒洁净度级别。
无尘室是指将一定空间范围内之空气中的微粒子、有害空气、细菌等之污染物排除，并将室内之温度、洁净度、室内压力、气流速度与气流分布、噪音振动及照明、静电控制在某一需求范围内，而所给予特别设计之房间，被设计成特殊构造的封闭区域。随着生产行业越来越重视质量检查，对缺陷零容忍和严格的生产实践标准，如今对无尘室的要求越来越高。
无尘室的主要应用领域是电子工业、制药、航空航天、汽车、信息技术以及许多需要更严格制造条件的其他领域。无尘室的应用范围：显微镜下的小组件、电子设备和仪器的制造；对药物和食品的无菌性和纯度的日益增长的需求；用于医学和生物应用的无菌环境。
无尘室的污染物可以来自各种各样的来源：空气（洁净度是根据无尘室的种类和灰尘的种类来确定的）、水分、化学品、植物本身和工作人员。
其中湿度会带来许多影响：
微生物生长与腐蚀
工作台表面的凝结导致生产计划延误和产品质量低劣
导致产品腐败
下面以半导体和制药无尘室的高湿度为例做具体阐述：
在半导体无尘室里，微电路和微芯片制造需要被称为光阻的吸湿聚合物来屏蔽蚀刻过程的电路线。由于这种材料的吸湿性，它们会吸收许多水分，因此，微观电路线被切断或桥接，导致电路故障。此外，在半导体制造中，当晶片制造区域中的湿度水平波动时，可能出现大量的问题。烘烤时间通常会增加，整个过程变得更加难以控制。相对湿度超过35%就会使部件容易受到腐蚀。另外，当显影溶剂喷到晶片上时，溶剂迅速蒸发，冷却晶片时也足以冷凝空气中的水分。这种额外的水分可以改变显影剂的特性，并被吸收到半导体层上。这可能会导致半导体肿胀和进一步的产品质量问题，需要额外的附加过程来补救。
在制药无尘室的制药设备中，高湿度会使细药粉吸收水分，在药片压缩机上堵塞药粉流动。由于吸湿引起的粉末不一致会让药片不成型和药效丢失。湿度的变化意味着机器温度和喷淋速率难以调节，导致热损伤和湿气侵入。此外，空气工作管道中的湿度为细菌生长创造条件，潮湿的地方还会引起其他污染。
一般来说，无尘室的相对湿度应控制在35-40%之间，这也是工作要求。如此严格的湿度控制就需要一台除湿机，而安诗曼工业除湿机就是你的首选。
安诗曼工业除湿机作为专业的除湿代表，在业内遥遥领先，如今已经走进了千家万户。只有安诗曼除湿机，才能满足无尘室的环境条件。无尘室的优质空气，只有安诗曼除湿机能给你！
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